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     熱處理設備 >> 低溫立式爐
     
     
    應用領域:
    適應于半導體高精度低溫熱處理工藝。

    技術指標:
    ● 工藝溫度范圍:100~300℃
    ● 恒溫區長度:250mm(可定制)
    ● 恒溫區內單點溫度穩定性≤±0.5℃
    ● 恒溫區內單點溫度重復性≤±0.5℃
    ● 升溫時間:≤20min
  1. ● 上一個產品: 高溫退火爐
  2. ● 下一個產品: 封焊爐
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