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熱處理設備
>> 低溫立式爐
應用領域：
適應于半導體高精度低溫熱處理工藝。
技術指標：
● 工藝溫度范圍:100~300℃
● 恒溫區長度：250mm(可定制)
● 恒溫區內單點溫度穩定性≤±0.5℃
● 恒溫區內單點溫度重復性≤±0.5℃
● 升溫時間:≤20min
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高溫退火爐
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封焊爐
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